此前在很长一段时间里，我们的发展都受到“造不如买”思想的影响，因为芯片的研发和生产需要投入大量的金钱和时间，所以很多科技企业都宁愿花费高昂的价格从国外直接进口芯片，也不愿意自己去研发和生产芯片；严重的依赖于国外的芯片，也导致国产科技企业的发展很容易被人卡脖子发展，这一次华为被打压无疑就直接给我们敲响了警钟；为了追上过去几十年的差距，国内为了研发半导体芯片也不得不重金投入，而最近国内的基金组织就重砸300亿用于十多个半导体研究项目的发展！
这一次我国的芯片企业中芯国际和紫光展锐等都得到了不同程度的支持，特别是中芯国际，作为国内芯片生产领域的巨头企业，中芯国际的发展十分被业内所重视；现如今中芯国际已经掌握了成熟工艺芯片的生产技术，但是在7nm和5nm等先进工艺芯片领域里，中芯国际却还有很多技术瓶颈，像EUV光刻机就是其中之一，为了解决光刻机的难题，不少国产科技企业都在努力的进行这相关的研发！
在重砸300亿后，光刻机重要零部件迎来安装；中科院推出一款镜镀膜设备，EUV光刻机所需的镜头都可以轻松得到解决，有了这一设备，我们可以将光学膜片镜头的厚度控制在0.1nm之内，也就是说可以直接满足1nm芯片生产所需的条件，更不用说是5nm和7nm了；另外在EUV光刻机的三大核心零部件Arf光源、超高精度透镜、双工件台都已经取得了突破，现在镜镀膜设备的研发和安装，也将解决中芯最后的难题！EUV光刻机的成功研发也将指日可待！
虽然说现在荷兰ASML公司已经牢牢的掌控着全球的EUV光刻机市场，但是国内在这一领域已经进行了快速的研发，而且还有了明显的突破；除此以外，甚至就连光刻胶我们已经成功进行了研发，并打破了国外的技术垄断，据悉，国内的南大光电、晶瑞股份和海新阳等企业已经成功研发出了用于先进工艺芯片生产的KrF光刻胶，并得到了国际市场的认可！
综合来看，在芯片禁令的限制之下，极大的激发了国产科技企业研发和突破半导体芯片技术的决心，纵观中国过去几十年时间的发展来看，虽然说在很多前沿科技领域的发展我们都曾遭到国外技术的垄断和封锁，但是最终我们通过自己的努力，也都实现了突破，并在一些前沿科技领域的发展创造了世界纪录，这一次在芯片领域无疑也将延续中国科研人员不怕困难的精神，我们相信要不了多久，国内就能解决EUV光刻机，以及先进芯片生产的难题，不知道对此你是怎么看的呢？
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